Dienstag, 13. Juni 2017

Laser Messe in München


Wir sind wieder auf der LASER-Messe in München vertreten





Vom 26.06. – 29.06.2017 finden sie uns auf dem UPOB-Gemeinschaftsstand in Halle B1 Stand 442 zusammen mit der Technischen Hochschule Deggendorf.

NEU vorgestellt werden u. A. unsere neuen Zentriersensoren und Zentrierautokollimatoren für schwach reflektierende, entspiegelte Flächen.

Mittwoch, 10. Mai 2017

Reges Interesse auf unserem Messestand auf der Messe Control in Stuttgart.


Wir präsentieren hier unser hochpräzises, patentiertes Messgerät ELWIMATund unsere neueste Entwicklung in Zusammenarbeit mit der Hochschule Deggendorf.











  

Dienstag, 28. März 2017

Fachmesse Control 2017 in Stuttgart





Dieses Jahr finden Sie uns wieder auf der Control in Stuttgart. Wir haben eine kleine Überraschung für Sie vorbereitet und freuen uns auf Ihren Besuch auf unserem Stand 4118 in Halle 4. 
   





09.–12. MAI 2017 STUTTGART 
31. Control-Internationale Fachmesse für Qualitätssicherung
http://www.control-messe.de/control/
     
                                                     
                                                      



Freitag, 27. Januar 2017

Reparatur hochgeöffneter Fizeau Objektive

Repair of High Aperture Interferometric FIZEAU-Optics.
HOFBAUER OPTIK MESS-Prüftechnik, Munich recently has repaired two of a few existing "historic" High Aperture 4"-Fizeau-Optics F-No. 0,51 of a worldwide operating German manufacturer.
The Problem has been a lot of Surface Defects on the Reference Fizeau-Surface (Radius 10,7, Diameter 21) and also the drop of the complete, glued Lens from the holder in one case.
Since the Manufacturer was not able to solve the Customer Problem in a cost efficient way, we startet some Recherches and a Reverse Engineering Project to get Manufacturing data for producing a Reference Lens with a negative hemisphere and more than a hemisphere on convex side (s.picture). Together with a consortium of 4 companies, we were able to Support the new lens (two pieces), to adjust it properly in the Barrel in 3 degrees of freedom (a few micrometers) to adjust Focus (cat's eye-) and Radius (confocal-position) better than a few micrometer and to certificate it better than 1/10 Wave @633nm and also 1/18 Wave.
Fizeau-interferometric Objective F#0,51 and Reference-lens

Donnerstag, 19. Januar 2017

So arbeiten Wirtschaft und Wissenschaft zusammen

Vignettierendes Feldblenden-Verfahren nach Dr. Hofbauer ermöglicht neue Fertigungsverfahren bei gekrümmten Teleskopspiegeln an der TH Deggendorf

Damit sind sowohl Planspiegel als auch sphärische und in Zukunft auch asphärische Substrate messbar. Die präzise, absolute Radienbestimmung - vor allem bei großen Radien von mehreren Metern - ist eine Aufgabe, welche mit klassischen Interferometern nicht oder nicht ohne weiteres zu realisieren ist. 
Beim neuen DaOS-Verfahren ist der Lichtstrahl die Geradheitsreferenz gegen den die gekrümmte Oberfläche mit Hilfe inkrementaler Winkelabschmitte vermessen werden kann.
Langwellige sphärische Abweichungen mit präziser Bestimmung midfrequenter Strukturen (Seidel-Aberrationen höherer Ordnung) sollen damit zunächst auf rotationssymmetrischen Flächen erfassbar werden. Der Artikel zeigt den aktuellen Stand der Forschung in dieser Thematik und vergleicht unter Anderem die Ergebnisse zwischen Interferometrischen, Deflektometrischen AKF-Verfahren und dem neuen Vignettierungsprinzip an einer speziell gefertigten Plan-Asphäre, einem so genannten Doppelsombrero. Das Verfahren soll in Zukunft zur InSitu-Messung an CNC-gesteuerten Doppelexzenter Hebelpoliermaschinen (u.a. Fa. Stock Konstruktion GmbH) eingesetzt werden.

"Deflectometric acquisition of large optical surfaces “DaOS” using a new physical measurement principle: vignetting field stop procedure."
Artikel in Optik&Photonik 5/2016